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चीन मिश्र धातु तलीय लक्ष्य निर्माता, आपूर्तिकर्ता, फैक्टरी

Senxiang (Ningbo) नई सामग्री कं, लिमिटेड मिश्र धातु तलीय लक्ष्य के एक निर्माता है। Senxiang विभिन्न मिश्र धातु प्लानर लक्ष्य प्रदान कर सकता है,

अलॉय प्लानर टारगेट दो या दो से अधिक एलॉय के साथ डोप किए गए लक्ष्य होते हैं। उत्पाद की शुद्धता 99.5% - 99.999% है, जो मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग चढ़ाना, थर्मल वाष्पीकरण चढ़ाना और इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण चढ़ाना के लिए उपयुक्त है। उत्पादों का व्यापक रूप से विभिन्न अर्धचालक उद्योगों, सौर फोटोवोल्टिक और फोटोथर्मल उद्योगों, निर्माण और मोटर वाहन, फ्लैट पैनल डिस्प्ले, लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले, एल ई डी, एकीकृत सर्किट, घटकों, चुंबकीय रिकॉर्डिंग, सजावट और उपकरण कोटिंग्स, एयरोस्पेस, सैन्य, वैज्ञानिक अनुसंधान, और में उपयोग किया जाता है। अन्य क्षेत्र।

Senxiang ग्राहकों की आवश्यकताओं के अनुसार विभिन्न प्रकार के अलॉय प्लानर लक्ष्यों का परीक्षण-उत्पादन कर सकता है। डोपिंग दर और उत्पाद का आकार अनुकूलित किया जा सकता है। परामर्श करने के लिए आपका स्वागत है।
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टाइटेनियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

टाइटेनियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

Senxiang टाइटेनियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य के अनुसंधान और विकास में विशेषज्ञता वाला एक उच्च तकनीक वाला उद्यम है। यह टाइटेनियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य की एक पूरी श्रृंखला का उत्पादन कर सकता है, जिसे आपकी आवश्यकताओं के अनुसार अनुकूलित किया जा सकता है।

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एल्यूमीनियम नियोडिमियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

एल्यूमीनियम नियोडिमियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

Senxiang उच्चतम घनत्व के साथ उच्च शुद्धता वाले एल्यूमीनियम नियोडिमियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य का उत्पादन करने में माहिर है। उच्च-शुद्धता (99.9%) Al-Nd अलॉय स्पटरिंग टार्गेट सबसे छोटे औसत ग्रेन आकार के साथ सेमीकंडक्टर, रासायनिक वाष्प जमाव (CVD) और भौतिक वाष्प जमाव (PVD) डिस्प्ले और ऑप्टिकल अनुप्रयोगों में उपयोग किया जा सकता है।

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मोलिब्डेनम नाइओबियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

मोलिब्डेनम नाइओबियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

मोलिब्डेनम नाइओबियम (MoNb) का उपयोग टच पैनल में ITO सेंसर के विशेष संक्षारण प्रतिरोधी संपर्क के रूप में किया जाता है। Senxiang का मोलिब्डेनम नाइओबियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य सबसे कठोर गुणवत्ता आवश्यकताओं को पूरा करता है। विशेष रूप से शुद्ध धातु पाउडर से तैयार लक्ष्य तक, हम पूरी निर्माण प्रक्रिया को एक छत के नीचे केंद्रित करते हैं। हमारे मोलिब्डेनम नाइओबियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य को सभी सामान्य आकारों के सपाट लक्ष्यों और घूर्णन लक्ष्यों के रूप में उपयोग किया जा सकता है।

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टंगस्टन टाइटेनियम प्लानर मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

टंगस्टन टाइटेनियम प्लानर मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

टंगस्टन टाइटेनियम प्लानर मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य में कम इलेक्ट्रॉन गतिशीलता, स्थिर तापीय यांत्रिक गुण, अच्छा संक्षारण प्रतिरोध और अच्छा रासायनिक स्थिरता है। हाल के वर्षों में, सेमीकंडक्टर चिप्स के गेट सर्किट के लिए संपर्क परत सामग्री के रूप में टंगस्टन-टाइटेनियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग किया गया है। इसके अलावा, टंगस्टन टाइटेनियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग अर्धचालक उपकरणों के धातु कनेक्शन में बाधा परतों के रूप में भी किया जा सकता है। यह उच्च तापमान वातावरण में प्रयोग किया जाता है, मुख्य रूप से वीएलएसआई और सौर कोशिकाओं के लिए।

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एल्यूमीनियम क्रोमियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

एल्यूमीनियम क्रोमियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

Senxiang डिस्क, आयत, स्तंभ, चरण और कस्टम आकार जैसे विभिन्न आकारों के साथ एल्यूमीनियम क्रोमियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य का उत्पादन करता है। गोलाकार लक्ष्यों के लिए विशिष्ट व्यास में 1 इंच, 2 इंच, 3 इंच, 4 इंच या 50 मिमी, 60 मिमी, 80 मिमी, 100 मिमी आदि शामिल हैं। विशिष्ट मोटाई में 0.125 इंच और 0.25 इंच या 3 मिमी, 4 मिमी, 5 मिमी, 6 मिमी आदि शामिल हैं। स्पटरिंग लक्ष्य हो सकते हैं Reuqest के रूप में कॉपर बैकिंग प्लेट के साथ बंधुआ।
एल्यूमीनियम क्रोमियम (Al-Cr) मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य के लिए विभिन्न शुद्धता, आकार और आकार को भी कस्टम बनाया जा सकता है। आप हमें एक उद्धरण के लिए अपनी जांच भेज सकते हैं।

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Senxiang कई वर्षों से चीन में निर्मित मिश्र धातु तलीय लक्ष्य का उत्पादन कर रहा है और चीन में पेशेवर मिश्र धातु तलीय लक्ष्य निर्माताओं और आपूर्तिकर्ताओं में से एक है। हमारा अपना कारखाना है। आप हमसे अनुकूलित उत्पाद खरीदने के लिए निश्चिंत हो सकते हैं। ग्राहक हमारे उत्पादों और उत्कृष्ट सेवा से संतुष्ट हैं। हम ईमानदारी से आपके विश्वसनीय दीर्घकालिक व्यापार भागीदार बनने की आशा करते हैं!