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सिलिकॉन रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य

सिलिकॉन रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य

Senxiang (Ningbo) नई सामग्री कं, लिमिटेड प्रदान करता है सिलिकॉन एक महत्वपूर्ण प्रकार की स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री है, मुख्य रूप से मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग चढ़ाना SiO2 और SiN ढांकता हुआ परत की प्रतिक्रिया प्रणाली में उपयोग किया जाता है, एक महत्वपूर्ण कार्यात्मक पतली फिल्म सामग्री के रूप में, उनके पास अच्छी कठोरता है प्रकाशिकी, माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक और अन्य क्षेत्रों में ऑप्टिकल और ढांकता हुआ गुण और पहनने के प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध और अन्य विशेषताओं में आवेदन की व्यापक संभावना है और कार्यात्मक सामग्री व्यापक रूप से अंतरराष्ट्रीय ध्यान हैं। सिलिकॉन रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य गहरे भूरे रंग का होता है।

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उत्पाद वर्णन

सिलिकॉन रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य गहरे भूरे रंग का होता है। सिलिकॉन कमरे के तापमान पर ठोस होता है, जिसमें 1414 ° C (2577 ° F) का गलनांक और 3265 ° C (5909 ° F) का क्वथनांक होता है। पानी की तरह, अधिकांश अन्य पदार्थों के विपरीत, तरल में इसका घनत्व ठोस की तुलना में अधिक होता है, और जब यह जम जाता है तो इसका विस्तार होगा। सिलिकॉन में 149 W ⢠m-1 ⢠K-1 की उच्च तापीय चालकता और अच्छी तापीय चालकता है। सिलिकॉन रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य मुख्य रूप से SiO2 और SiN जैसे ढांकता हुआ परतों को जमा करने के लिए प्रतिक्रियाशील मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग में उपयोग किया जाता है। महत्वपूर्ण कार्यात्मक फिल्म सामग्री के रूप में, उनके पास अच्छी कठोरता, ऑप्टिकल, ढांकता हुआ गुण और पहनने के प्रतिरोध हैं। सिलिकॉन लक्ष्य के संक्षारण प्रतिरोध में ऑप्टिक्स और माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक के क्षेत्र में व्यापक अनुप्रयोग संभावनाएं हैं, और वर्तमान में इसे दुनिया भर में कार्यात्मक सामग्री के रूप में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है। वर्तमान में, यह मुख्य रूप से एलसीडी पारदर्शी प्रवाहकीय ग्लास में उपयोग किया जाता है, लो-ई ग्लास और माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक उद्योग का निर्माण करता है। सिलिकॉन रोटरी स्पटरिंग लक्ष्यों को दो प्रकारों में विभाजित किया जा सकता है: सिंगल क्रिस्टल और पॉलीक्रिस्टलाइन। हम czochralski क्रिस्टल विकास विधि द्वारा सिलिकॉन रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य का उत्पादन करते हैं।


उत्पाद पैरामीटर (विशिष्टता)

संघटन सी
पवित्रता > 99.99%
घनत्व ï¼g/cm³ï¼ â¥2.2
विद्युत प्रतिरोधकता
(Ω.cm)
â¤40
सैद्धांतिक घनत्व (जी / सेमी 3) 2.32
धातु अशुद्धता
(पीपीएम)
Feâ¤60, Alâ¤30, Caâ¤10, Totalâ¤100
आयाम (मिमी) अधिकतम आयुध डिपो 151
अधिकतम लंबाई 4000


उत्पाद सुविधा और आवेदन

सिलिकॉन रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य मुख्य रूप से सेमीकंडक्टर चिप, फ्लैट पैनल लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले (एलसीडी), सजावट और कार्यात्मक कोटिंग उद्योग, सौर पैनल, डेटा भंडारण उद्योग (ऑप्टिकल डिस्क उद्योग), ऑप्टिकल संचार उद्योग, ग्लास कोटिंग (ग्लास और ऑटोमोबाइल का निर्माण) में उपयोग किया जाता है। कांच) उद्योग, जंग और पहनने के प्रतिरोध (सतह संशोधन) और अन्य क्षेत्रों।


उत्पाद विवरण

कुशल पहचान और गुणवत्ता नियंत्रण सुनिश्चित करने के लिए हमारे सिलिकॉन रोटरी स्पटर लक्ष्य को स्पष्ट रूप से टैग और बाहरी रूप से लेबल किया गया है। भंडारण या परिवहन के दौरान होने वाली किसी भी क्षति से बचने के लिए बहुत सावधानी बरती जाती है। हम बंधन सेवाएं प्रदान कर सकते हैं


हॉट टैग: सिलिकॉन रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य, चीन, निर्माताओं, आपूर्तिकर्ताओं, कारखाने, चीन में निर्मित, अनुकूलित

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